河北地質大學盧昶雨、江蘇科技大學郭峰/施偉龍課題組 Small:基于黑色g-C3N4納米片的光熱自修復防污防腐涂層的構筑
2025-01-15 來源:高分子科技
有機涂層是一種具有成本效益的有效抗腐蝕策略,然而,在使用過程中,涂層不可避免地會遭受到磨損或者劃傷,嚴重限制了涂層的實際應用。因此,急切地需要開發一種具有自修復性能的抗腐蝕涂層。光熱-自修復涂層由于其遠程可控性和局部修復的優點,從而受到廣泛關注。
石墨氮化碳(g-C3N4或CN)作為一種典型的二維層壓納米材料,其在層間產生的迷宮效應能夠阻礙腐蝕離子與金屬基底接觸,達到延緩腐蝕的目的。同時,g-C3N4具有制備簡單,成本低,無毒性且溫度的優點,是一種具有潛力的防腐填料。然而,g-C3N4對于可見光吸收差等缺點限制了其在光熱方面的應用。聚二甲基硅氧烷(PDMS)涂層的玻璃態轉化溫度低及在光熱條件下,分子間氫鍵的斷裂和重組可刺激PDMS鏈的運動,從而達到宏觀的涂層自愈合,從而受到廣泛應用。在本文中,通過一鍋煅燒法合成黑色g-C3N4(BCN)材料,以提高其光熱轉換能力,從而在光照射下促進反應溫度提升,使涂層具有光熱自修復能力。
圖9 BCN/PDMS 復合涂層的防腐/防污機理示意圖。
論文鏈接地址:https://doi.org/10.1002/smll.202411729
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(責任編輯:xu)
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