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| 資料類型： |
PDF文件
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| 關鍵詞： |
ZrO2薄膜 磁控濺射 濺射氣壓 相結構 O /Zr |
| 資料大?。?/td>
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| 所屬學科： |
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| 來源： |
來源網絡 |
| 簡介： |
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利用射頻反應磁控濺射在顯微玻璃、單晶硅片、NaCl和石英上沉積ZrO2薄膜。膜厚60～80nm。研究發現，濺射氣壓升高，薄膜結晶程度降低，同時存在單斜相和四方相；晶粒尺寸增大；折射率上升；透射率在700~1000nm波段上升。這些結果表明濺射氣壓影響ZrO2薄膜生長機制、微觀結構和成份，進而影響其光學性能。 |
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| 上傳人： |
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| 上傳時間： |
2007-07-17 16:31:22 |
| 下載次數： |
6984 |
| 消耗積分： |
2
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