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傾斜濺射制備TbFe薄膜的磁力顯微鏡研究 |
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PDF文件
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| 關(guān)鍵詞： |
磁力顯微鏡 TbFe薄膜 傾斜濺射 |
| 資料大小： |
697K |
| 所屬學(xué)科： |
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| 來源： |
來源網(wǎng)絡(luò) |
| 簡介： |
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磁力顯微鏡（MFM）作為研究表面磁結(jié)構(gòu)的有力工具廣泛地應(yīng)用于磁性薄膜的研究中。TbFe磁致伸縮薄膜在實(shí)際應(yīng)用中要求易磁化軸平行于膜面，以具有較低的面內(nèi)飽和場Hs，傳統(tǒng)的成膜技術(shù)難以實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)，采用傾斜濺射方法制備TbFe薄膜可有效降低面內(nèi)飽和場Hs。通過測量樣品的磁滯回線可以發(fā)現(xiàn)，易磁化軸隨著濺射角度的增加逐漸偏離樣品的法線方向，而取向于平行膜面。本研究工作利用MFM研究了不同濺射角度得到的TbFe薄膜的磁疇結(jié)構(gòu)。發(fā)現(xiàn)薄膜的磁疇結(jié)構(gòu)隨著濺射角度的增加逐漸由垂直疇轉(zhuǎn)化為水平疇，與磁滯回線測量得到的易軸方向發(fā)生偏轉(zhuǎn)的結(jié)果相吻合。 |
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| 上傳人： |
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| 上傳時(shí)間： |
2007-07-06 13:12:12 |
| 下載次數(shù)： |
7044 |
| 消耗積分： |
2
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| 相關(guān)評論 共有1人發(fā)表評論 |
更多評論 |
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| aspcsu 2008-12-12 23:55:01 |
| 傾斜濺射制備? |
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