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NdCl3鍍液濃度對電鍍CoNdNiMnP永磁薄膜陣列磁性能的影響

資料類型：

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關鍵詞：

CoNdNiMnP永磁薄膜陣列電鍍垂直各向異性鐵磁耦合

資料大小：

126K

所屬學科：

分子表征

來源：

2004年第五屆中國功能材料及其應用學術會議（9.12-9.16，北京.秦皇島）

簡介：

基于輕稀土元素-Nd與過渡金屬元素-Co之間的鐵磁耦合作用提高電鍍CoNiMnP永磁薄膜陣列的磁性能，在電鍍時引入稀土Nd元素進入CoNiMnP永磁薄膜陣列中，通過改變鍍液中NdCl3的濃度而改變CoNdNiMnP薄膜中的Nd含量。對鍍液中NdCl3濃度與薄膜磁性能的關系進行了分析與測試，結果表明：室溫下，在電流密度為5mA/cm2時，具有垂直各向異性的CoNdNiMnP永磁薄膜陣列被成功地電鍍得到。隨著NdCl3濃度的增加，薄膜的磁性能提高，當NdCl3濃度增加到0.25103g/cm3時，薄膜的磁性能達到最大值，繼續增加鍍液中NdCl3濃度，薄膜陣列的磁性能不再增加。

作者：

張勤勇蔣洪川張萬里張金平楊仕清

上傳時間：

2007-07-16 14:14:04

下載次數：

613

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