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磁控濺射制備TbFeCo薄膜及其光學(xué)和磁光性質(zhì)研究

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關(guān)鍵詞：

放電等離子燒結(jié)(SPS) 磁光薄膜橢偏光譜磁光Kerr效應(yīng)

資料大小：

86K

所屬學(xué)科：

分子表征

來源：

2004年第五屆中國功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會議（9.12-9.16，北京.秦皇島）

簡介：

采用放電等離子燒結(jié)（SPS）TbFeCo合金靶，分別在Si襯底和K9玻璃襯底上磁控濺射制備了磁光薄膜TbFeCo/Si和TbFeCo/K9；利用掃描型可變?nèi)肷浣侨詣訖E偏儀，室溫下測量了復(fù)介電常數(shù)譜，測量結(jié)果表明兩樣品介電函數(shù)值有較大差異，說明襯底對薄膜的光學(xué)性質(zhì)有重要影響。用磁光Kerr譜儀，在室溫下分別測量了TbFeCo薄膜的極向Kerr回線和橫向Kerr回線，發(fā)現(xiàn)所制備TbFeCo薄膜不具有垂直磁化性質(zhì)，而呈現(xiàn)出面內(nèi)磁化性質(zhì)。

作者：

張晉敏郜小勇李晶周鵬鄭玉祥王松有張冬青陳良堯

上傳時間：

2007-07-16 13:15:43

下載次數(shù)：

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