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PDF文件
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| 關(guān)鍵詞: |
氧化鋅納米陣列 場發(fā)射 形貌 穩(wěn)定性 |
| 資料大小: |
489K |
| 所屬學(xué)科: |
分子表征 |
| 來源: |
2007年第六屆中國功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議暨2007國際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19,武漢) |
| 簡介: |
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采用物理氣相沉積的方法通過控制生長參數(shù),在硅襯底上獲得不同形貌的氧化鋅納米陣列。在金屬場發(fā)射系統(tǒng)中測量了它們的場致電子發(fā)射性能,發(fā)現(xiàn)陰極發(fā)射電流不穩(wěn)定主要是由于氧化鋅納米陣列的不均勻性造成的。采用高壓勵(lì)煉技術(shù)可以增強(qiáng)氧化鋅場發(fā)射的穩(wěn)定性,使電流波動(dòng)明顯降低。此外,形貌對氧化鋅納米陣列的場發(fā)射電流密度和閾值電壓有明顯影響,而且不同形貌的氧化鋅納米陣列的抗濺射能力也不相同。 |
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| 作者: |
倪賽力,常永勤,陳喜紅,張寅虎,多永正,強(qiáng)文江,龍毅
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| 上傳時(shí)間: |
2008-09-05 14:23:47 |
| 下載次數(shù): |
32 |
| 消耗積分: |
2
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