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濺射氣壓對FeCoSiB 非晶薄膜表面形貌及磁特性的影響

資料類型：

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關鍵詞：

fecosib 非晶薄膜濺射氣壓表面形貌矯頑力剩磁

資料大小：

360K

所屬學科：

分子表征

來源：

2007年第六屆中國功能材料及其應用學術會議暨2007國際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19，武漢)

簡介：

利用磁控濺射的方法，在玻璃基片上制備了FeCoSiB非晶薄膜，研究了濺射Ar氣壓強對薄膜表面形貌及磁特性的影響。結果表明，薄膜的表面形貌顯著依賴于Ar氣壓強，隨著Ar壓強的增加，薄膜表面顆粒增大，粗糙度增加并形成柱狀微結構。Ar氣壓強對薄膜磁特性有顯著的影響，隨Ar壓強增加，薄膜的矯頑力增加，而剩磁則呈下降趨勢。從薄膜的磁滯回線、矯頑力以及剩磁隨濺射氣壓的變化規律可知，濺射氣壓較小時制備的薄膜軟磁性能較好。

作者：

湯如俊，謝巧英，彭斌，張萬里，張文旭，蔣洪川

上傳時間：

2008-08-20 15:29:51

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