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| 資料類型： |
PDF文件
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| 關鍵詞： |
射頻磁控濺射 ca2si 薄膜 濺射功率 |
| 資料大小： |
308K |
| 所屬學科： |
分子表征 |
| 來源： |
2007年第六屆中國功能材料及其應用學術會議暨2007國際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19，武漢) |
| 簡介： |
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采用射頻磁控濺射技術在Si（100）襯底上沉積了Si-Ca-Si薄膜，并在高真空條件下對樣品進行退火處理，直接生成立方相Ca2Si薄膜。研究了不同濺射功率對薄膜的晶體結構、表面（斷面）形貌的影響，并對其光學性質進行了測試分析。結果表明：Ca2Si薄膜為立方結構且具有沿(111)向擇優生長的特性，當濺射功率為120W時，Ca2Si薄膜變的均勻、致密，在400～800nm波長范圍內，濺射功率對折射率n和吸收系數k的影響較小。 |
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| 作者： |
任雪勇，謝泉，楊吟野，肖清泉，楊創華，曾武賢，梁艷
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| 上傳時間： |
2008-08-12 15:55:53 |
| 下載次數： |
44 |
| 消耗積分： |
2
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