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| 資料類型： |
PDF文件
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| 關鍵詞： |
SrTiO3薄膜 退火處理 界面形態(tài) 晶化 |
| 資料大小： |
206K |
| 所屬學科： |
分子表征 |
| 來源： |
2004年第五屆中國功能材料及其應用學術會議（9.12-9.16，北京.秦皇島） |
| 簡介： |
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用激光脈沖沉積技術(PLD)，以N型（100）Si為基底在300℃下制備100nm非晶STO薄膜，分別用常規(guī)退火（CFA），快速退火（RTA）以及激光誘導晶化（LIC）處理將其轉化多晶薄膜，用XRD測定薄膜相組分和結晶質量，用AFM觀測薄膜表面微結構。比較不同工藝退火對薄膜結晶品質的影響并闡述了各自形核結晶的機理。 |
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| 作者： |
黃文 孫小峰 蔣書文 張鷹 李言榮
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| 上傳時間： |
2007-07-09 15:12:44 |
| 下載次數(shù)： |
617 |
| 消耗積分： |
2
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