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嵌段共聚物薄膜在化學(xué)圖案上的引導(dǎo)組裝

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所屬學(xué)科：

分子表征

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第十三屆全國(guó)應(yīng)用化學(xué)會(huì)議論文集（2013.8.23~26，長(zhǎng)春）

簡(jiǎn)介：

從上世紀(jì)70年代的10μｍ制程技術(shù)開(kāi)始到2012年英特爾量產(chǎn)22nmIvyBridge處理器，在過(guò)去的半個(gè)世紀(jì)里半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)給人類生活帶來(lái)了翻天覆地的變化。眾所周知，半導(dǎo)體行業(yè)采用光刻法來(lái)制造處理器。現(xiàn)今業(yè)界采用的光刻光源是193nm紫外光，一次曝光只能制備節(jié)距不小于80納米的結(jié)構(gòu)，想要制造更細(xì)微的納米結(jié)構(gòu)，必須采用液浸曝光技術(shù)兩次或多次曝光[1]。迄今為止，業(yè)界仍未確定制備16nm或者更小的動(dòng)態(tài)隨機(jī)存儲(chǔ)器或微處理器單元半節(jié)距(DRAMorMPUl/2pitch)的光學(xué)方案。但是，美國(guó)半導(dǎo)體研究聯(lián)盟遴選出潛在的可用于制備16和IInmMPU/DRAM的六種備選技術(shù)，其中包括“DSA+litho”，即嵌段共聚物的引導(dǎo)組裝...

作者：

季生象

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2013-10-28 14:57:04

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pangyy52 2014-05-04 12:04:02

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