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磁控濺射工藝參數(shù)對氧化鈦薄膜晶體結構的影響

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結構表征

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用非平衡磁控濺射技術制備氧化鈦薄膜。研究了基體偏壓、沉積溫度、基體性質及濺射功率對薄膜晶體結構的影響。結果表明，到達基體的粒子的能量和離子/原子比是影響氧化鈦薄膜晶體結構的主要因素；而到達基體的離子/原子比是生成完全金紅石結構氧化鈦薄膜的決定性因素。

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2007-07-06 17:16:39

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