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Si襯底上La0.8Sr0.2MnO3/SrMnO3雙層結構研究

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關鍵詞：

LSMO薄膜 SMO緩沖層擇優取向生長界面擴散

資料大小：

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所屬學科：

結構表征

來源：

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簡介：

利用磁控濺射方法在Si(100)襯底上首先生長SrMnO3(SMO)作為緩沖層，再沉積La0.8Sr0.2MnO3(LSMO)薄膜，得到(110)面擇優生長的LSMO/SMO雙層結構。利用X射線衍射儀分析了SMO緩沖層的結構特征對LSMO薄膜擇優取向生長的影響；利用Rutherford背散射(RBS)分析了LSMO/SMO間的界面情況。結果表明：以SMO作為單一緩沖層時，不僅可以實現LSMO薄膜在Si(100)襯底上的（110）面的擇優生長，而且LSMO/SMO的界面擴散現象也不明顯。

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2007-07-17 11:09:13

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