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| 用途 |
| 對(duì)含雜原子（碳、氫之外的原子）的高分子化合物或合成的高分子金屬化合物，高分子－金屬配合物，有時(shí)難以確定分子的化學(xué)結(jié)構(gòu)，這時(shí)對(duì)化合物中化學(xué)鍵的表征，可以提供高分子化合物化學(xué)結(jié)構(gòu)的信息。 |
| 表征方法及原理 |
（1）X－射線光電子能譜（XPS）表征高分子化學(xué)鍵
當(dāng)一束單能量軟X射線照射被測(cè)高聚物時(shí)，入射光子將把能量轉(zhuǎn)移給高聚物分子中的電子，使電子脫離原子的束縛而逃離，將這些逃離電子稱為光電子，測(cè)量這些光電子的動(dòng)能分布情況，可以得到聚合物中高分子化學(xué)鍵的類型及變化情況，從而可推斷高分子的化學(xué)結(jié)構(gòu)。
（2）紅外吸收光譜法（FTIR）
測(cè)定高分子化合物的吸收光譜，從中尋找各種化學(xué)鍵的吸收峰，推算化合物結(jié)構(gòu)。 |
| 所用儀器 |
| X－射線光電子能譜（XPS）
紅外吸收光譜（FTIR）
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| 參考文獻(xiàn) |
| 1、“現(xiàn)代高分子物理學(xué)”（P.670），殷敬華、莫志深主編，科學(xué)出版社，2001年 |
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