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含有不同間隔基團的二階非線性光學高分子 |
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| 資料類型： |
PDF文件
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| 關鍵詞： |
間隔基團 合成 構性關系 |
| 資料大小： |
87K |
| 所屬學科： |
分子表征 |
| 來源： |
2009年全國高分子學術論文報告會（8.18-8.22，天津） |
| 簡介： |
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目前非線性光學高分子應用的主要阻礙是如何將發色團的一階超極化率(β)值轉換為材料高的宏觀非線性光學效應。根據位分離原理，在生色團上引入間隔基團可以很好解決此問題，可是間隔基團的形狀、大小及其引入位置與材料宏觀非線性光學性能之間的關系如何，尚沒有相關報道。 |
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| 作者： |
李忠安，葉成，秦金貴，李振
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| 上傳時間： |
2009-09-25 11:58:47 |
| 下載次數： |
1 |
| 消耗積分： |
2
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