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氫、氧等離子體處理對氮化硼薄膜場發(fā)射特性的影響

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關(guān)鍵詞：

氮化硼薄膜場發(fā)射表面處理閾值電場發(fā)射電流

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106K

所屬學(xué)科：

性能表征

來源：

來源網(wǎng)絡(luò)

簡介：

用RF磁控濺射的方法在Si（100）基底上沉積了納米氮化硼薄膜，然后分別用氫、氧等離子體對薄膜表面進(jìn)行了處理，用紅外光譜、原子力顯微鏡、光電子能譜以及場發(fā)射試驗對薄膜進(jìn)行了研究，結(jié)果表明氫等離子體使BN薄膜表面NEA增加，閾值電場降低，發(fā)射電流明顯增大。氧等離子體處理對BN薄膜的場發(fā)射特性影響不大，只是發(fā)射電流略有降低，這只能是由于氧化層存在的原因。

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2007-07-11 14:01:51

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